全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī)

全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī)

全自動(dòng)步進(jìn)重復(fù)式激光干涉光刻機(jī)VIL 1000納米光刻系統(tǒng)具有全自動(dòng)光路重構(gòu)、動(dòng)態(tài)鎖相、高精度步進(jìn)重復(fù)曝光等強(qiáng)大功 能。上述功能均通過我們自主研發(fā)的控制軟件輕松實(shí)現(xiàn)。在放置旋涂好光刻膠的 晶圓后，無需任何手動(dòng)設(shè)置或調(diào)整，我們的自動(dòng)化系統(tǒng)可以在2 cm×2cm的曝光區(qū)域內(nèi) （曝光區(qū)域還可定制其他尺寸及形狀）實(shí)現(xiàn)納米尺度的一維光柵或二維陣列的加工。所制 備納米結(jié)構(gòu)的周期涵蓋240 nm到1500 nm的區(qū)間范圍，可滿足絕大部分對(duì)納米結(jié)構(gòu)的需求。通過高精度的步進(jìn)重復(fù)式曝光系統(tǒng)，VIL 1000系統(tǒng)還可以在高達(dá)8英寸的晶圓襯底上 進(jìn)行納米圖案的“拼接"工藝，實(shí)現(xiàn)晶圓級(jí)納米加工。其中每個(gè)“拼接"區(qū)域的納米圖案 都可由LithoPro單獨(dú)設(shè)置，包括周期、晶格和特征尺寸等參數(shù)。VIL 1000系統(tǒng)可選配的升 級(jí)模塊還包括紫外接觸式曝光、特征尺寸調(diào)制及光刻工藝仿真等。 VIL 1000 納米光刻系統(tǒng)非常適合在同一晶圓襯底上分區(qū)域加工不同納米結(jié)構(gòu)的應(yīng)用，比如AR表面浮雕光波導(dǎo)等。此外，該系統(tǒng)也非常有利于快速加工大面積納米結(jié)構(gòu)，實(shí)現(xiàn)納米器 件的設(shè)計(jì)參數(shù)到試產(chǎn)驗(yàn)證的快速迭代。

v> 步進(jìn)重復(fù)式曝光 標(biāo)準(zhǔn)配置的 VIL 1000 納米光刻系統(tǒng)支持在 4 英寸晶圓上進(jìn)行步 進(jìn)重復(fù)式曝光，每個(gè)獨(dú)立的曝光區(qū)域面積可高達(dá)通過升級(jí)的更高配置的工件臺(tái)，最大“拼接"范圍可進(jìn)一步擴(kuò)展到 6-8 英寸晶圓。

全自動(dòng)化參數(shù)設(shè)置 全自動(dòng)的快速可重構(gòu)光路模塊和多軸精密工件臺(tái)系統(tǒng)助力于制造具有 不同周期和幾何形狀的納米圖案，包括一維線柵和納米點(diǎn)、孔、棒、 棋盤格等二維陣列。

特征尺寸調(diào)制 / 紫外接觸式曝光模塊 VIL 1000 納米光刻系統(tǒng)可以選配特征尺寸調(diào)制模塊。通過精密調(diào) 制光刻納米結(jié)構(gòu)的占空比，該模塊可提高單次曝光區(qū)域內(nèi)的納米圖案均勻性，也可用于實(shí)現(xiàn)經(jīng)過特定設(shè)計(jì)的特征尺寸的空間調(diào)制。 此外，VIL 1000 系統(tǒng)還支持選配紫外接觸式曝光模塊，使該系統(tǒng)可適用于更廣泛的應(yīng)用